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射频磁控溅射仪【异议或纠错】

档案编号: CQ-694-9921-1645
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/35类
授权状态: 已授权
档案内容: 本实用新型公开了一种射频磁控溅射仪,包括机架,机架上设有真空室及溅射电源,真空室内设有载物台及靶头,基片承载在载物台上;所述载物台旋转设置在真空室内,靶头设置在载物台上方,载物台与靶头之间设有预溅射挡板,预溅射挡板上镀设有镀膜靶材,溅射电源为射频电源,与镀膜靶材电连接。本实用新型在真空的环境下利用真空室内载物台的旋转,配合利用射频电源、预溅射挡板的溅射方式,能够有效提高镀膜的均匀度。
附件下载:  (原始资料备查)

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