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一种抛光砖抛釉砖加工工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-695-0940-7268
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C04B41/89;C04B41/84;B24B39/06类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开一种抛光砖抛釉砖加工工艺,其特征在于,包括:抛光—水洗—风干—洁亮—第一次防污—磨边—水洗—风干—对色、分级—第二次防污—包装。其中,所述洁亮是指在风干后的砖体表面涂布一层二氧化硅溶胶,二氧化硅溶胶经失水后聚合成玻璃体填充在抛光砖面层的孔洞内;所述第一次防污是指在洁亮后的砖体表面涂布不足量的防污液,充当工序间的临时保护;所述第二次防污是指在砖体表面涂布防污液形成永久保护。与现有技术相比,本发明将磨边工序放在第一次防污工艺,即使在瓷砖边缘存在暗边区,但通过后续的磨边工序也可将暗边区完全磨去,从根本上解决了高光泽度抛光砖的边沿光度低、防污差的问题,使高光泽度抛光砖的产品性能得到极大提升。
附件下载:  (原始资料备查)

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