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一种餐具的加工工艺及餐具【异议或纠错】

档案编号: CQ-706-5960-5899
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/35;C23C14/20;C23C14/16;C23C16/40;C23C28/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种餐具的加工工艺及餐具,所述餐具的加工工艺包括以下步骤:(1)基材处理工序:离子清洗基材,时间为175-185s;(2)底层处理工序:将基材安装在挂具上送入真空炉内,抽真空至8×10-3Pa以上,通过磁控溅射工艺在基材的外表面镀底层,时间为120-140s,其中挂具正反转各一半时间,通入氩气,并将工作气压控制在0.12-0.15Pa,靶材电流为34-36A;(3)着色层处理工序:通过磁控溅射工艺在底层的上表面镀着色层,时间为120-140s,其中挂具正反转各一半时间,通入氩气,并将工作气压控制在0.12-0.15Pa,靶材电流为37-39A;(4)保护层处理工序:通过化学沉积离化工艺在着色层的上表面镀保护层,时间为120-200s,其中挂具正反转各一半时间,通入氧气,并将工作气压控制在1.8-2.8Pa,靶材电流为1.5-2.5A。
附件下载:  (原始资料备查)

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