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专利信息

一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉、抛釉砖及其制备方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-712-4460-3817
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C03C8/02;C03C8/14;C04B41/89类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明属于陶瓷釉料技术领域,具体涉及一种适用于抛釉砖快速烧成的面釉,包括质量比为1：0.4～0.6：30～40的基础釉、釉浆调节剂和水；所述基础釉的组分及各组分占所述基础釉的质量百分含量分别为：钾长石15～20%,钠长石15～17%,白云石3～6%,硅灰石5～7%,烧滑石1.5～3%,碳酸钡4.3～5.5%,煅烧氧化锌3.5～4.5%,水洗高岭土5～6.5%,石英3.2～4.5%,煅烧氧化铝2.5～3.7%,高温哑光熔块30～33%。本发明还提供一种抛釉砖,该抛釉砖的面釉层采用上述的面釉制成。本发明还提供一种抛釉砖的制备方法。本发明不仅解决了全抛釉产品在生产过程中容易出针孔、熔洞等缺陷的问题,而且提升了产品的透感、图案清晰、层次分明,同时可以拓宽面釉的烧成范围和釉面硬度。
附件下载：  (原始资料备查)

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