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股份有限公司(台港澳与境内合资、上市) 成立历史第22 

一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-722-7180-0509
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B08B3/10(2006.01);I;B08B1/02(2006.01);I;B08B13/00(2006.01);I;C25D1/04(2006.01);类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及电解铜箔生产设备技术领域,具体地,涉及一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和工作台,所述工作台的端均设置有清洁水箱,工作台两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置,所述工作台的两 侧还设置有驱动按压装置转动的驱动组件,引导轮组件设置在按压装置的侧部,清洁水箱的上方的一侧设置有导入轮,清洁水箱的另一侧设置有导出轮,清洁装置包括有清洁组件和水平移动组件,所述水平移动组件设置在清洁水箱的侧壁上,水平移动组件的输出端上竖直设置有安装杆,所述清洁组件安装在安装杆上,并且清洁组件的输出端延伸至清洁箱内,本装置可以高效清洁密封圈。
附件下载:  (原始资料备查)

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