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一种负离子釉面瓷砖的制备方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-724-5660-6810
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C04B33/135;C03C8/20;C04B41/86类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开一种负离子釉面瓷砖的制备方法,包括瓷砖坯体和负离子釉面料的制备,将负离子釉面料涂覆于瓷砖坯体表面,然后经窑炉烧制而成,其特征是所述瓷砖坯体制备是将制备瓷砖坯体的原料经混合球磨、陈腐、成型为瓷砖坯体;所述制备瓷砖坯体的原料包括如下质量份组分组成:高岭土30#35,石英石10#15,粉煤灰5#8,钾长石10#15,滑石矿粉20#30,纳米硅石粉2#3,纳米氧化锗粉2#3,珍珠粉5#8,沸石粉5#8;本发明提供一种天然、无味及无毒副作用环保安全,且生产制备工艺较简单,制备成本低。
附件下载:  (原始资料备查)

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