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一种适用于抛釉砖快速烧成的底釉、抛釉砖及其制备方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-733-7940-0617
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C03C8/14;C03C8/20;C04B41/89类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提供了一种适用于抛釉砖快速烧成的底釉,包括底釉料,所述底釉料包括按质量百分比计的如下组分:钾长石27~35%,钠长石8~14%,烧滑石1~4%,中温熔块2.5~4.8%,高膨胀熔块0.5~2.2%,石英20~35%,高岭土10~14%,煅烧氧化铝7~15%。另外,本发明还提供了包含该底釉的抛釉砖。该发明底釉的配方设计中采用同时提升石英和煅烧氧化铝的用量,先提升配方的发色效果和烧成温度,然后再采用填加中温熔块的方法,实现配方降温的目标,从而不仅能拓宽抛釉砖的烧成范围,满足快烧的要求,又具有较好的发色效果。
附件下载:  (原始资料备查)

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