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一种改善仓储环境下稻谷易产生裂纹的加工工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-446-3296-9837
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第A23B9/14;A23B9/26;A23B9/24;A23B9/30;C01B33/18;C01B33/38;C01G45/02;B82Y30/00;B82Y40/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种改善仓储环境下稻谷易产生裂纹的加工工艺,涉及稻谷加工技术领域,具体工艺如下:1)制备空心介孔有机氧化硅纳米胶囊;2)加工制得二氧化锰纳米线;3)对膨胀蛭石进行处理;4)将空心介孔有机氧化硅纳米胶囊和改性膨胀蛭石粉引入到壳聚糖溶液和羧甲基纤维素钠溶液中,制得两种涂膜液,将稻谷交替浸入到两种涂膜液中进行涂膜,经过真空干燥即可。本发明中,通过静电自组装在稻谷表面形成交替的薄膜涂层,降低了谷粒内部因吸湿造成的不均匀膨胀的加剧,从而减少了谷粒中裂纹的产生,并且可以使稻谷吸湿裂纹产生的进程减缓,使得稻谷裂纹生成率得以降低,从而实现稻谷中裂纹生成率降低的技术效果,实现稻谷品质的提升。
附件下载:  (原始资料备查)

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