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R-莫达非尼新晶型及其制备方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-446-7572-2932
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C07C317/44;C07C315/06类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提供一种R-莫达非尼的新晶型,其产生的X-射线衍射光谱在下列晶面间距包括强度峰:8.30,4.21,还包括强度峰:12.63,6.19,4.38,4.25,3.93,和包含10.7,21.1和22.4度以及的7.0,14.3,20.2,20.9,22.6和40.5度2θ。该种R-莫达非尼新晶型的制备包括以下步骤:氨化物使用乙酸乙酯和无水乙醇组成的混合溶剂结晶得到R-莫达非尼粗品;将上述R-莫达非尼粗品通过无水乙醇重结晶得到R-莫达非尼晶型A。本发明的R-莫达非尼晶型A具有热力学稳定,且流动性好,易于加工成制剂产品等优点,另外本发明提供的R-莫达非尼晶型A的制备方法对环境友好,还具有收率高、易于工业化操作的特点。
附件下载:  (原始资料备查)

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