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专利信息

一种瓷片及其制造方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-458-0092-7554
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C04B41/89类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明提供一种瓷片及其制造方法。本发明所提供的瓷片其包括坯体层,底釉层,面釉层,印花层,其中所述的底釉层厚度为0.1～0.4mm,所述的面釉层厚度为0.05～0.2mm。其制造方法包括如下步骤：原料球磨除铁、喷雾造粒、粉料冲压成型、素烧、施底釉、施面釉、印花、二次釉烧、拣选分级,其中所述施底釉所形成的底釉层厚度为0.1～0.4mm,所述施面釉所形成的面釉层厚度为0.05～0.2mm,施底釉和施面釉步骤是通过喷釉方式形成。较薄的釉层可以缓解因坯釉匹配性问题造成的龟裂缺陷,同时也可以突出坯体上的立体纹路效果,并且可以解决立体纹路凹凸起伏过大造成的断釉缺陷。因其坯体吸水率较高,使用水泥砂浆粘贴的方式铺贴于高处,也能保证安全,施工便捷,工期短,成本低。
附件下载：  (原始资料备查)

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