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一种含氧基团的活性炭在去除四氯化硅中的杂质的应用【异议或纠错】

档案编号: CQ-557-6715-4593
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B01D15/08;B01J20/20;C01B33/107;B01J20/30类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种含氧基团的活性炭在去除四氯化硅中的杂质的应用,所述含氧基团包括羧基、酯基、羟基、羰基、醛基、醚键、酮基中的一种或多种官能团。本发明将含氧基团的活性炭作为吸附剂,可以吸附四氯化硅中的杂质,吸附能力极佳,能够实现四氯化硅纯化的目的;本发明制备方法简单易操作,具有广阔的市场应用前景。
附件下载:  (原始资料备查)

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