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一种专用于生产磁性传感器芯片的磁控溅射设备【异议或纠错】

档案编号: CQ-588-1580-1368
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/35;C23C14/56类
授权状态: 已授权
档案内容: 本阀门涉及一种专用于生产磁性传感器芯片的磁控溅射设备,该溅射设备包括晶圆传递室,在晶圆传递室设置晶圆传递机械手,在晶圆传递室的出口端连接若干溅射室且溅射室之间彼此独立,在晶圆传递室进口端连接进样室,进样室进口端连接SMIF装置,本阀门通过增加SMIF功能区、进样室功能区、晶圆传递室晶圆区,单材料单溅射室功能区这种模式,能够极大的提高生产效率,使磁控溅射设备从原先的10h抽真空时间缩短至10min抽真空时间,并且由于单材料单溅射室,避免了不同材料间的相互污染,保证了不同层薄膜材料的纯度,极大的提升了薄膜的性能,提高了可靠性和稳定性,采用多边形的晶圆传递室结构,极大的提升了设备的可扩展性,使设备能够满足多种材料的生长需求。
附件下载:  (原始资料备查)

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