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一种聚脲专用耐抗污的有机硅低聚物及其制备方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-628-3162-8707
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C08G77/26;C08G77/08;C08G18/61;C09D175/02;C09D5/16类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开一种聚脲专用耐抗污的有机硅低聚物及其制备方法,所述制备方法为:先将氟烷基烷氧基硅烷、烷基烷氧基硅烷或四烷氧基硅烷进行水解缩聚得到烷氧基封端线性低聚硅氧烷,再将得到的烷氧基封端线性低聚硅氧烷与含羟烷基或胺烷基的烷氧基硅烷进行水解聚合反应,得到所述的聚脲专用耐抗污的硅氧烷低聚物。本发明通过引入氟烷基、烷基基团、与异氰酸酯特定反应的氨基或羟烷基基团以及制备含多烷氧基结构的硅氧烷低聚体,不仅制备方法简单、成本低,而且可精确控制有机硅低聚物中的聚合度、烷氧基数、烷基数和氟烷基数,解决了传统硅氧烷改性聚脲的反应不稳定、附着力差、相分离严重、成本高的难题。
附件下载:  (原始资料备查)

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