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一种超白瓷抛大理石及其制备方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-063-3703-7820
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C04B41/89;C03C8/20;C03C8/00;C03C8/02类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明属于陶瓷技术领域,具体涉及一种超白瓷抛大理石,其由下至上包括坯体层、底釉层、白印刷釉层,印花层和抛釉层;底釉层包括以下重量份原料:高钾长石粉10-12份,精钠长石粉18-21份,特级霞石粉10-12份,烧滑石3-4份,熔块2-3份,特级水洗高岭土7-8份,特级煅烧高岭土10-11份,煅烧a型氧化铝微粉18-22份,超细硅微粉14-15份,硅酸锆13-17份,甲基纤维素0.1-0.2份,三聚磷酸钠0.3-0.5份;其制备方法为:先将压制成型的坯体进行干燥得到坯体层,然后在坯体层表面依次形成底釉层、白印刷釉层,印花层和抛釉层,最后送入辊道窑烧成,之后经抛光、磨边得到超白瓷抛大理石。本发明的超白瓷抛大理石的白度可以完全达到72度以上,纹理更清晰,图案更逼真,达到石材仿真的视觉效果。
附件下载:  (原始资料备查)

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