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一种光刻胶、制备方法及其光刻工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-105-4237-1249
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G03F7/004;G03F7/16;G03F7/20类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及光刻技术领域,具体而言,涉及一种光刻胶、制备方法及其光刻工艺。所述光刻胶主要由大分子量树脂、小分子量树脂、光敏剂和溶剂制成;所述光刻胶主要是由按质量百分比的以下组分制成:大分子量树脂15-25%、小分子量树脂2-16%、光敏剂3-15%、以及溶剂50-80%。小分子量树脂的分子量相对较低,分子的链结构相对较短,占据体积相对较小,空间位阻相对较小,可以填充于大分子量树脂形成的空隙之间,并且小分子量树脂与大分子量树脂之间通过分子间作用力,提高两者之间的结合力,进一步增加光刻胶在烘烤后的结构致密性,提高粘附力,避免漂胶。
附件下载:  (原始资料备查)

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