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专利信息

光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-118-4037-2029
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第G03F7/004;G03F7/16;G03F7/32;G03F7/38类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明提供了一种光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法,具体涉及光刻胶技术领域。该光刻胶组合物包括聚对羟基苯乙烯均聚物和光致去活剂,两者的质量比为100-600:2-50。所述聚对羟基苯乙烯均聚物的重均分子量为1000-20000。该光刻胶组合物光敏感性强,采用248nm深紫外光刻的光源曝光后,在500nm膜厚下,曝光剂量可以降低至10mJ/cm～2以下。该聚对羟基苯乙烯均聚物无保护基团,能够参与交联,所以具有较高的碳原子含量,明显提高耐干法刻蚀性能,提高刻蚀比,大幅提高客户生产效率,降低生产成本。
附件下载：  (原始资料备查)

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