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专利信息

一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置【异议或纠错】

档案编号： CQ-115-9002-6466
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C02F1/30;C02F1/72;C02F1/78类
授权状态： 已授权
档案内容： 一种气液两相膜低温等离子体废水处理方法及装置,将废水和工作气体分别通入等离子体装置内,其中工作气体引入到气带锥形分布器内部,废水则沿着气带锥形分布器的外表面缓慢流下；工作气体通过气带锥形分布器表面分布的气带,在气体压力作用下,与气带锥形分布器外壁的废水形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部的低温等离子体环境；气液两相薄膜在低温等离子体环境下放电产生活性基团与水中的有机污染物发生反应。本发明采用气带锥形分布器将废水与工作气体形成气液两相薄膜向四周散开并进入到高压电极内部等离子体环境,形成气液两相薄膜同时放电产生活性基团与水污染物直接接触并反应,提高污染物的去除率和能量利用率。
附件下载：  (原始资料备查)

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