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专利信息

前驱体(101)和(001)晶面的XRD衍射强度比值的调控方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-116-5671-2984
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第H01M4/525;C01G53/00类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明属于电池材料技术领域,公开了正极材料的前驱体的(101)晶面和(001)晶面的XRD衍射强度比值的调控方法。共沉淀法合成前驱体的过程包含两个阶段：成核阶段和生长阶段；,为反应体系的上清液的碱度值,单位为g/L；为组成前驱体的主金属的盐溶液的流量,为沉淀剂溶液的流量,为络合剂溶液的流量,单位均为ml/min；成核阶段在惰性气体或氮气气体保护下进行,控制60A80；成核阶段结束后,进入生长阶段；生长阶段,60＜A＜160。在生长阶段,A的数值越大,制备得到的前驱体的I(101)/I(001)数值越大。
附件下载：  (原始资料备查)

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