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专利信息

一种适用于P+选择性发射极电池的硼工艺【异议或纠错】

档案编号： CQ-316-7297-3148
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第H01L31/0224;H01L31/18类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明涉及一种适用于P+选择性发射极电池的硼工艺,包括以下步骤：(1)恒定源硼旋涂；(2)烘干；(3)进舟于炉管内；(4)检漏；(5)升温氧化；(6)无氧推进；(7)高温氧化；(8)降温；(9)低温乘积硼源；(10)低温推进；(11)出舟；(12)激光掺杂。本发明通过恒定源硼推进与气体硼源掺杂的共同作用,一方面形成了轻掺杂区域,拥有较高表面浓度浅结的结构,可有效地提升电池的开路电压和短路电流；另一方面用激光进行二次掺杂形成重掺杂区域,可有效的改善欧姆接触,提升填充因子。
附件下载：  (原始资料备查)

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