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一种改善研磨后晶片衬底碎屑粘附的方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-055-0597-0008
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B24B1/00;B24B7/22;B24B41/00;B24B41/06;B24B55/06;B24B55/02类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及一种改善研磨后晶片衬底碎屑粘附的方法,属于半导体器件加工技术领域。将减薄后的晶片先放入去屑装置,去屑装置包括微孔盘和旋转盘,去屑时,将晶片吸附在微孔盘上,然后使晶片接触旋转盘下侧的锥形软塑,微孔盘与旋转盘的间隙内注入碳酸钠溶液,旋转盘转动,利用锥形软塑刮除晶片表面碎屑,然后对晶片进一步清洗,本发明能够在研磨减薄后快速有效去除衬底表面粘附的碎屑,增加衬底与蒸镀金属的粘附性,工艺简单,操作方便,效率高,广泛适用于适GaAs砷化镓基、硅基及其它制备LED衬底的晶片。
附件下载:  (原始资料备查)

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